Sustav za magnetronsko rasprašenje
Kontakt osobe
Sustav za depoziciju tankih slojeva DC i RF magnetrosnkim rasprašenjem. Uređaj se sastoji od ultra-visokovakuumske komore i magnetronskog izvora. Za postizavnje visokog vakuuma u komori uređaj koristi turbo-molekularnu pumpu povezanu s membranskom pumpom. Radio-frekventni izvor napona omogućava rasprašenje materijala male vodljivosti.
Opći podaci o instrumentu
Skraćeni naziv instrumenta
Magnetronsko rasprašenje
Kategorija
srednja (26.544,56 – 132.722,81 EUR / 200.000 – 1.000.000 HRK)
Vrsta instrumenta
uređaj za depoziciju tankih filmova
Primjene
depozicija tankih filmova
Samostalan/vezan
samostalan
Stanje opreme
potpuno funkcionalan
Discipline
Fizika
, Kemija
Godina proizvodnje
2008
Tijelo koje je financiralo nabavku opreme
Hrvatska zaklada za znanost
, Europska unija
Vanjski link za kapitalnu opremu
Karakteristike
Detaljne tehničke karakteristike
- Pumpa; Membranska Vakuum (2002) - Sustav; vakuumskih pumpi (2005) - Sustav; Izvor čestica za nanošenje tankih filmova Kurt J. Lesker (2011) - Komora; za depoziciju poluvodičkih tankih filmova, Vakum Praha (2011) - Nosač komore (2011) - Vakuummetar, Kurt J. Lesker (2015) - Izvor RF, Kurt J. Lesker (2015) - Vakummetar, MKS Instruments (2016) - Predkomora Ultravisokovakumska, MDC Vacuum (2015)
Prenosivost
Ne
Rad na daljinu
Ne
Lokacija
Adresa
Bijenička 54
Krilo/Kat/Soba
I/0/117
Uvjeti korištenja
Način korištenja instrumenta
korištenje uz pomoć ovlaštene osobe